陈平江点点头，转而问梁老：“您怎么看？”

梁孟松笑着道：“老张和我的想法一样。”

“28纳米不尝试下吗？”陈平江好奇问。

“呃……”二老你看看我，我看看你，苦笑一声。

“我们能在最短时间内突破32纳米就不错了，至于28纳米想都不敢想，目前应该也只有台积电，在研发上比较领先，有望今年量产。”

张老也道：“主要是太难了。”

在这个时间节点上28纳米就是最先进的，是这个年代的先进制程。

28纳米就是一个大节点。与40纳米工艺相比，28纳米栅密度更高、晶体管的速度提升了约50%，每次开关时的能耗则减小了50%。

陈平江在脑海里想了想措辞：“我之前有了解过曝光技术。当时很好奇为什么不通过多次曝光来提升光刻的效率和精确度。”

多重曝光即用多个掩膜板，在同一块晶圆上进行多次光刻操作，将不同的图案叠加在一起，形成更细微的图案。这相当于用多个胶片拼接出一个更精细的图像。

梁老笑着道：“看来平江你的确了解过，不过你了解的可能不全面，行业里面倒是听过有两次曝光的，但多次的话，估计还真没有。不是说做不到，而是生产出来的芯片良率过低，成本过高，最终得不偿失。假设我们一次曝光的良率和台积电相同，都能达到90%，经过四次曝光后的芯片良率为0.9×0.9×0.9×0.9，也就是65%。”

“这个良品率太低了，我们得卖什么样的价格给客户？客户最终又接受不接受我们的价格？所以说还不如买最新的DUV光刻机经过一次曝光。”

陈平江笑着点头，“我就是随口说说。假如先用一个掩膜板，在晶圆上刻出一个较粗糙的图案，然后在图案上覆盖一层如氧化硅，再用另一个掩膜板，在硬质材料上刻出一个较细致的图案。最后去掉硬质材料和多余的部分，只留下最终想要的图案。这相当于用两个胶片分别放大和缩小一个图像，再将它们重合在一起。”

“当然了，我们就是瞎聊，我也不懂，二老不要笑话我才好。”

谁知道陈平江刚刚说完，张汝京和梁孟松嘴巴张得老大，一副看怪物的模样看着陈平江。

“这是别人和你说的还是你想到的？”

陈平江假模假样的摆摆手：“我不说了不说了，哈哈，都说我不懂了。”

下一秒，梁老直接抓住了陈平江的胳膊追问：“你说的方案极有可能实现，即便不如用更好的DUV来生产，但也绝对是能够达到目标的方案。” 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第3页/共6页