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第五百六十五章 冬季到台北来看雨

“是啊,现在是一个产业升级的关键时候。”倪老也开口了:“目前,英特尔和amd已经开始采用0.25微米的工艺来制造处理器了,他们计划在新千年之前普及0.18微米的工艺,发热量和耗电量都会大幅度下降,我们龙芯和他们的差距将会再次拉大。”

这是一条没有尽头的比赛,一旦上了赛道,就必须要不停地向前奔跑!

本站域名已经更换为www.adouyinxs.com 。请牢记。秦涛点头:“没错,我们必须要有全新的工艺,还得是自主研发和生产的设备,这样才能避免受制于人。”

话说到这里的时候,许正阳走了进来:“秦总,客人来了。”

“嗯,请他们进来吧。”

客人?

张汝金和倪老都有些好奇,不知道秦涛请的客人是谁,他们望向了门口的方向,看到两名西装革履的人走了进来。

前面的倪老认识,是前几年搞国产光刻机的徐端义,后面的人呢?他不是很清楚,但是张汝金却认出来了:“林,你怎么来了?”

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“秦总,你们这是在开重要会议吗?”林本坚很是惊讶:“我来参加这种会议合适吗?”

“当然合适了。”秦涛说道:“我们现在讨论的就是几年之后的芯片工艺升级的问题。林先生,您今天是主讲人。”

林本坚更加的兴奋了。

“各位,非常高兴能给你们介绍一下我的研究方向,现在,为了越过193纳米光源的技术关口,我认为用浸润法是最合适的。”林本坚滔滔不绝地讲解了起来。

在场的都是相关专业的专家,度在认真地倾听着林本坚的介绍,等到说完之后,张汝金开口了:“没错,这种方法可以让我们的工艺达到0.13微米,但是如果想要再进一步,那就很难了。”

“以后的事情以后再说,0.13微米的工艺可以保证我们领先世界五到十年,我相信,有这段时间的积累,我们的新工艺也应该能继续打造出来了。”秦涛开口说道。

张汝金点头:“秦总说得有道理,目前我们想要弯道超车,这种工艺是最合适的。”

当其他的厂商在0.18微米的工艺上大费周章的时候,己方已经率先迈进了0.13微米的工艺,领先十年不敢说,至少五年内都是先进的,五年的时间里,再打造更加先进的光刻机,也是有可能的。

而且,利用这种更加先进的0.13微米的工艺,他们生产的芯片将会是全世界最先进的!

龙芯也将会因为这种工艺而受益,在性能上真正地赶超竞争对手! 本章未完,请点击下一页继续阅读! 第4页/共6页

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