还要考虑散热。

光照在水上会加热水，这种事平时不算什么，但光刻机是极为精密的设备。

给水散热最好的方法就是让水流动起来，但是水一流动，就又可能会形成气泡，所以出水口的形状、位置都得经过严格计算。

光是为了给他们做纯水泵和单向阀，就差点难死东升重工！

此外还要考虑到底是把整个工作台浸没在水中, 还是仅镜头浸在水中……

这其中反反复复实验了不知道多少遍，才得到了一个技术上较为可行，经济上较为合算的结果。

进入厂房，杨东升看了一眼旁边的杨淼，虽然只能看到眼睛，但是看得出他对这里很感兴趣, “怎么样, 这里干净吧？”

“嗯！”杨淼点点头。

随同他们一起参观的还有几位国内半导体领域的专家。

同样一身无尘服的黄副总边走边介绍，“这台光刻机是八十年代初制造的, 使用的是波长0.436微米的汞灯g线，孔径数值0.3，分辨尺寸只有0.89微米。目前经过我们的改造，已经可以达到0.35微米制程，追上了九十年代中期的国际先进水平！”

众人闻言纷纷点头。

黄副总继续道，“我统计了一下总公司，以及各子公司、关联公司的同类设备，光是这一项就可以为公司节约投资20个亿，年增加产值5个亿以上！让一大批老设备焕发新春！”

杨东升问，“如果把咱们最先进的光刻机拿出来，你们能做到什么程度？”

“这个……”黄副总登时有点卡壳，“咱们公司最先进的光刻机采用的是193纳米准分子激光光线，这個等级的光刻机目前我们还没有能力进行改造, 而且蚀刻机、光刻胶达不到，仅对对光刻机技术改造也无法生产。”

杨东升还是太心急了！

半导体生产就是典型的木桶理论，你能生产出什么样的设备，不在于你能达到的上限有多高, 而在于你的下限。

即便现在杨东升能拿出一台阿斯麦极紫外线光刻机, 也生产不出10纳米以下制程的芯片。

“很好了！”杨东升拍了拍黄副总的肩膀，“美国人、日本人搞了几十年，才达到目前的水平，咱们才搞了几年？未来二十年内，咱们能追到国际先进水平2年以内，就算咱们成功了！”

这时一个看起来瘦瘦的专家道，“利用水的折射特性，实现技术飞跃确实是一个好方法，可是光线波长到193纳米以下，就会被水强烈吸收了，你们有没有考虑过将来？”

“倪老师，浸没式只是我们过渡方案！”黄副总对这位瘦瘦的专家很恭敬，“下一代光源技术，我们正在研发中！”

“为什么用水就可以实现技术飞跃？”忽然一个明显与周围气氛不符的声音响起。 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共2页