当然此时这帮人心头在痒也没用，毕竟这份资料还是属于别人的，他们唯一能做的只是继续往下研究。

紧跟着资料中介绍的是euv光源辐射能的收集问题。

介于euv光源发出的辐射波长极短，物质对其的吸收十分强烈，所以完全无法使用之前的透射式光学系统对辐射进行收集，所以这也的确是euv光刻技术的一大难点，不过他们研发的掠入射式光源收集系统已经基本上快要解决这个问题。

接下来在研究这份资料给出的方案时，尼康的研发人员发现这份资料给出的方案其实跟他们的研究非常近似，却又更加完善。一些微小的细节，能更好的解决这套系统在euv光源的短波长下引发的光学问题。

这无疑给了他们新的思路跟启示。可就在他们甚至忘记了时间流逝，一边不停探讨一边津津有味的看到最关键的地方时，尼玛，这些能容竟然再次被直接的胡乱掩盖掉了！

没错，就在最关键最让人期待的时候，资料上只剩下一排排参差不齐的粗黑杠！那些重要的内容全部被埋在了黑杠之下！这还当真是——坑爹啊！

对这帮研发人员来说，这就好像一个上了年纪的男人，好不容易被一个如狼似虎的女人勾起了性《一〈本读《ybdu..趣，两人天雷地火般的进行到最关键的时候，女人一把推开男人，直接穿上裤子准备走人一样让人难以接受啊！多被这么玩弄几次，直接痿了的可能性都有啊。

甚至有人都想拿出个硬币。把那些粗黑杠掩去的地方给刮开都好。不过这毕竟不是彩票，显示器更是公家财务。刮坏了是要赔的，这才让一帮人止住了怨念。

不过这样一来也让很多人虽然明知道这份材料接下来的部分可能会更加精彩。更有价值，但是都不想继续研究下去了。这太坑人了，每次都是在最关键的部分动刀子，不带这么玩人的吧？

当然这种情绪也只能在心头抱怨。毕竟大家都是在工作，自然不能随便撂担子，不过话说回来，抛去资料关键点被粗暴的划去这一点不谈，这份资料对这些研发人员的吸引力也是极大的，起码能给他们开拓思路不是？

接下来关于如何提升光源强度等等问题都进行了详细论述。甚至在资料最后还给出了光掩模板的无瑕疵解决方案，当然最关键的部分都同样被掩盖了。

不过即便是这样也没有人敢小觑天书科技，或者说天书科技所代表的华夏在光刻机研发进程了。不过在跟研发人员一起把这些资料大概的浏览跟探讨后，山口达也完全不明白王正宇这是卖的什么药了。

有了这些技术，天书科技似乎完全有能力将自己的光刻设备生产出来。虽然新型的euv光刻技术的关键部分都被隐去，让他无法判断这些资料是否真的完全解决了这些难点。但是生产现在有的193nm沉浸式光刻技术的光刻机却是完全没有了任何技术障碍。他为什么专门找到尼康来购买光刻机设备？这人该不会是无聊到专门跑到日岛来调戏尼康的吧？ 本章未完，请点击下一页继续阅读！ 第1页/共3页